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parts2clean, 23. - 25. Oktober 2018
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Reinigung in der Photonikindustrie

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Produktbeschreibung

Die Photonik ist die Gesamtheit physikalischer, chemischer und biologischer Technologien zur Erzeugung, Verstärkung, Übertragung, Messung und Nutzbarmachung von Licht. Anwendung findet sie bei der Entwicklung von Komponenten und Systemen zur Bildverarbeitung, in der Mess-, Kommunikations- und Informationstechnik und auf den Gebieten der Energie-, Medizin- und Nanotechnologie. Zunehmend werden in der Photonik-Industrie Bauteile benötigt, die absolut frei von Partikeln und filmbildenden Produktionsrückständen sind. Solche Verunreinigungen entstehen jedoch während der Herstellung zwangsläufig. Die Reinigungsverfahren in der Photonik-Industrie reichen von der wässrigen Reinigung, über Lösemittel-, Laser- und Plasma- bis hin zur Ultraschallreinigung. Für Bauteile der Photonik-Industrie gibt es heute sogar speziell entwickelte Reinigungsprozesse und -anlagen, die bis zu acht Reinigungsstufen bewältigen.

Der Bedarf an Halbleitertechnologien, LEDs, Lasertechnik, Photovoltaikanlagen und Informationstechnik wächst stetig. Damit einher geht der erhöhte Bedarf an Reinigungslösungen, denn nur mit höchstem Reinheitsgrad können einwandfreie optische Geräte und Komponenten angeboten werden. Verunreinigungen hingegen führen zu Leistungs- und Datenverlust oder eingeschränkter Verwendungsmöglichkeit. Daher ist es dringend erforderlich auf das jeweilige Bauteil abgestimmte Reinigungsverfahren und -prozesse zu entwickeln und anzuwenden.

Produkt-Website

Halle 5, Stand C31

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